Tecnologia de Plasmas e Filmes Finos
Objetivos
Esta UC irá proporcionar uma profunda compreensão de várias técnicas deposição utilizando a tecnologia de plasmas e de outras aplicações tecnológicas, permitindo que os alunos se familiarizem com as questões científicas primordiais associadas a estas tecnologias de forma a contribuir para a resolução de problemas da sua investigação. Pretende-se também conferir-lhes as competências associadas ao grau de doutor, nomeadamente a compreensão sistemática no domínio científico, aptidões para investigação, análise crítica de conceitos e resultados, implementação de projectos, técnicas de comunicação escritas e orais, entre outras.
Caracterização geral
Código
9555
Créditos
6.0
Professor responsável
André João Maurício Leitão do Valle Wemans, Susana Isabel Santos Silva Sério Venceslau
Horas
Semanais - A disponibilizar brevemente
Totais - 84
Idioma de ensino
Português
Pré-requisitos
Recomendável ter na formação de base uma unidade curricular de Física de Estado Sólido, Tecnologia de Superfícies e Interfaces ou similar.
Bibliografia
-“Physical vapor deposition of thin films ” – John E. Mahan, Wiley, 2000.
-“Introduction to plasma physics” – D. A. Gurnett and A. Bhattacharjee, 2nd ed., Cambridge University Press, 2017.
-“Physics of thin films ” – Maurice H. Francombe and John L. Vossen, ACADEMIC PRESS, INC., 1982.
Método de ensino
Esta unidade curricular funcionará numa base de sessões tutoriais e de trabalhos a realizar e apresentar ao longo do semestre.
Método de avaliação
A avaliação final será a média das classificações obtidas nos relatórios dos trabalhos experimentais propostos e realizados e de uma monografia.
Conteúdo
Introdução à Física de Plasmas. Frequência de plasma, Temperaturas e densidades; Blindagem e esfera de Debye. Descarga eléctrica; Processos de criação e aniquilação de carga; Descarga luminescente; Regimes de descarga díodo; Lei de Paschen; Lei de Child-Langmuir; Descargas Díodo Simples, Descargas DC, Descargas RF e Descargas tipo magnetrão; Tipos de cátodos; Variantes das Descargas tipo magnetrão: “High Power Impulse Magnetron Sputtering”, Descarga magnetrão balanceada e não balanceada e deposição por plasma de arco; Aplicação dos plasmas na alteração da propriedades das superfícies (tratamentos superficiais) e Obtenção de padrões em filmes finos; Aplicações tecnológicas baseadas em tecnologia de plasmas.